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实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（Mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
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机显时还要注意以下几点：①要定期维护显影机，以保证已曝光的PS版显影能正常进行。②在显影之前必须保持各传动辊清洁，若牵引辊不干净，显影时印版易粘上脏点。③如显影机有涂胶装置，一定注意胶辊要保持清洁，否则要弄脏印版。④一般情况下，阳图PS版显影液(原液)的显影能力为10m2/L。⑤上保护胶时，一定要均匀施胶，不能太厚，以免干后导致涂层龟裂和掉版。
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制版（platemaking）是将原稿成印版的统称。有将铅活字排成活字版，以及用活字版打成纸型现浇铸成凸版和将图像经照像或电子分色获得底片，用底片晒制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影响印版质量的因素，主要有显影液浓度、显影温度和显影时间以及显影液的循环搅拌情况、显影液的疲劳程度等。
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