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使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光（曝光波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应
经过显影、定影后，曝光区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层
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色彩：物体的色彩来源于光。自然界中绝大部分物体本身是不发光的，制版公司，如印刷品、花草、树木。它们的颜色是来自对太阳光谱的色光加以反射或透射而产生的。自然界中光的三原色是红、绿、兰，这三种色光不同的组合可组成无数种色光；色料的三原色是青、品红和黄，理论上，此三色颜料不同比例的混合，可得到自然界中1切颜色。
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什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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