公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
使用无掩模光刻机读取版图文件,对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光(曝光波长405nm),照射掩膜版上所需图形区域,使该区域的光刻胶(通常为正胶)发生光化学反应
经过显影、定影后,曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层
光掩膜上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业,下游主要包括IC制造、IC封装、平面显示和印制线路板等行业,应用于主流消费电子 (手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、电子等终端产品。
目前全球范围内光刻掩膜版主要以专业生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,掩膜版,所以光刻掩膜版都是由专业的生产商进行生产。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
盐城掩膜版-光刻版厂由苏州优版光电有限公司提供。行路致远,砥砺前行。苏州优版光电有限公司(www.szphotomask.com)致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴,更矢志成为光电子、激光仪器具有一定影响力的企业,与您一起飞跃,共同成功!