公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。
在有必要的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，光罩，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
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标定板图纸内容如下：
1. 需要附上材料
2. 精度
3. 外形尺寸公差，厚度
4. 制作效果图纸：正负板之分等。（如果考虑价格因素，需要强调多少倍率下面允许看到瑕疵）
5. 需要提供详细的CAD图纸（图纸i好不要画比例图纸）。以上为制作标定板完整信息
光罩-苏州制版(推荐商家)由苏州优版光电有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为光电子、激光仪器具有一定影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!
