公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光掩膜一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具,光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应,选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用Cr,因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线,在于你常用的光刻胶,每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
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业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,光刻版,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,后应用于光蚀刻。
光刻版-制版厂(图)由苏州优版光电有限公司提供。行路致远,砥砺前行。苏州优版光电有限公司(www.szphotomask.com)致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴,更矢志成为光电子、激光仪器具有一定影响力的企业,与您一起飞跃,共同成功!